Die DRE-Dr. Riss Ellipsometerbau GmbH ist im Jahre 1989 gegründet worden. Entwickelt und gebaut werden Geräte für die Dünnschichtmessung im Schichtdickenbereich von 0,000001 Nanometer bis etwa 10 Mikrometer. Im Jahre 1995 ist die Firma mit dem Schmidt Römhild Technologiepreis für die Entwicklung des ersten Submonolayer-Ellipsometers ausgezeichnet worden.

Da die physikalischen Gesetzmäßigkeiten in diesem Submonolagen-Schichtdickenbereich anders sind als die Gesetzmäßigkeiten bei durchgehenden Schichten, wurde speziell für diesen Schichtdickenbereich eine Simulationsphysik auf Basis der Maxwell'schen Gleichungen entwickelt, die das Ankoppelverhalten im molekularen Bereich sehr gut beschreibt.

Die Firma DRE entwickelt nicht nur Serienprodukte sondern auch anwenderspezifische Geräte für Forschung und Produktion. Beispiele hierfür sind die Lebensdauerprognostik von Bondverbindungen von Halbleiterchips, die in-Prozessvermessung der Schichtdicke von Dachpfannenbeschichtungen oder die Polarisationsanalyse von kurzen wiederkehrenden elliptisch polarisierten Piko- und Nanosekundenimpulsen.



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